ایران مقاله

 

 پروژه دانشجویی مقاله ویژگیهای الکتریکی، مکانیکی و اپتیکی فیلمهای نازک نیترید مس با آلایش تیتانیوم فایل ورد (word) دارای 4 صفحه می باشد و دارای تنظیمات در microsoft word می باشد و آماده پرینت یا چاپ است

فایل ورد پروژه دانشجویی مقاله ویژگیهای الکتریکی، مکانیکی و اپتیکی فیلمهای نازک نیترید مس با آلایش تیتانیوم فایل ورد (word)   کاملا فرمت بندی و تنظیم شده در استاندارد دانشگاه  و مراکز دولتی می باشد.

این پروژه توسط مرکز مرکز پروژه های دانشجویی آماده و تنظیم شده است

توجه : در صورت  مشاهده  بهم ریختگی احتمالی در متون زیر ،دلیل ان کپی کردن این مطالب از داخل فایل ورد می باشد و در فایل اصلی پروژه دانشجویی مقاله ویژگیهای الکتریکی، مکانیکی و اپتیکی فیلمهای نازک نیترید مس با آلایش تیتانیوم فایل ورد (word) ،به هیچ وجه بهم ریختگی وجود ندارد

---

بخشی از متن پروژه دانشجویی مقاله ویژگیهای الکتریکی، مکانیکی و اپتیکی فیلمهای نازک نیترید مس با آلایش تیتانیوم فایل ورد (word) :

مقدمه

فیلمهای نیترید مس (Cu3N) بعنوان ماده جالبی در قطعات مختلفی مانند پیوند تونلی اسپینی، حافظههای اپتیکی با ظرفیت بالا، نقاط کوانتومی مس و سلولهای خورشیدی ترکیبی آلی- معدنی

توجه زیادی را به خود معطوف کرده است Cu3N .[1-2] ترکیبی است که ترکیب شیمیایی آن به شدت تابع روش و شرایط نهشت است. همینطور ترکیب شیمیایی آن به روش مشخصهیابی شیمیایی حساس است. این مادهی شبهپایدار در دمای بالاتر از 250 C به

14

Cu و N2 تجزیه میگردد. در سالهای اخیر، رشد فیلمهای ترکیبی

سهتایی بر پایه Cu3N مانند (Pd, Cu)N، (Ti, Cu)N، (Ag, Cu)N گزارش شدهاند. .[ 3- 6]

آزمایش و روشها

فیلمهای نازک نیترید مس با استفاده از کندوپاش مگنترونی واکنشی DC از یک هدف آلیاژی دوتایی Ti13Cu87 بر روی زیرلایههای تکبلور سیلیکن (111)، کوارتز، اسلاید شیشهای و

استیل در اتمسفر خالص نیتروژن و دو فشار 0/4 و 0/8 Pa نهشته

میشوند. اتاقک سیستم کندوپاش از طریق پمپهای چرخنده و

تربومولکولی تا فشار 7 10 -4 Pa تخلیه میگردد. توان

کندوپاشی، دمای زیرفیلم و فاصله هدف- زیرفیلم به ترتیب در

80W ، 150 C و 19/5 cm ثابت میشوند.

مشخصهیابی ساختاری فیلمها بوسیله پراشسنج پرتو X (Siemens D5000) با تابش CuK در مد روبشی 2 انجام

میشود. مقاومت ویژه فیلمها از اندازهگیری پروب چهار سوزنی حاصل میشود. سختی فیلمها با تست میکروسختی ویکرز اندازه-

گیری میشود. مطالعه اپتیکی با اندازهگیری عبور در بازه طول-

موجی 300- 1100nm با استفاده از طیفسنج نوری

(Shimadzu, UV 1700 Pharma Spec) در دمای اتاق انجام میشود. با استفاده از یک روش مهندسی معکوس ضخامت، قسمت حقیقی و موهومی ضریب شکست فیلمها محاسبه میشود.
از روی ضریب جذب نوع فرایند گذارهای نیمرسانایی (مستقیم یا غیر مستقیم) و مقدار انرژی گافباندی در آنها تعیین میشود.

نتایج و بحث

ویژگیهای ساختاری

شکل 1 دیاگرامهای پراش پرتو X فیلمهای Cu3N با افزودنی (Ti: Cu3N )Ti نهشتهشده بر روی زیرفیلم سیلیکن (111) در دو فشار نیتروزنی مختلف را نشان میدهد. فازهای شبه- Cu3N و Cu ظاهر میگردند و هیچگونه بازتابهایی از فازهای تیتانیوم فلزی یا نیترید تیتانیوم در دیاگرام XRD دیده نمیشود

افزودن تیتانیوم به Cu3N ساختار بلوری فیلم آنرا تغییر نمیدهد. ثابت شبکه Ti:Cu3N (جدول (1 بزرگتر از مقدار نظری آن برای

Cu3N فاقد 3815 A ) Ti، ([3] است. ساختار Cu3N در مرکز سلول واحد دارای جایگاه خالی است [1]، اتمهای Ti نمیتوانند در مرکز سلول Cu3N دارای تناسبعنصری قرار گیرند، . [7]

تشکیل جایگاههای تهی از Cu در شبکه Cu3N که با اتمهای Ti

اشغال شدهاند افزایش در ثابت شبکه [7] را بخوبی توجیه میکند.

افزودن Ti در شبکه Cu3N بعنوان یک بافر عمل میکند که منجر به افزایش نیتروژن افزوده در فیلمها میگردد که در توافق با این است که تمامی فیلمها دارای فوق تناسبعنصری N هستند، [8]

شکل 1 دیاگرام XRD لایههای Ti- Cu- N نهشتی بر روی زیرلایه Si (111) در فشارهای نیتروژنی مختلف، [7]

جدول -1 مشخصات تخلیه مگنترونی ( پتانسیل هدف کاتدی Vd و جریان تخلیه It )، ثابت شبکه (a0)، و آهنگ نهشت (R) فیلمهای Ti:Cu3N در فشارهای نیتروژنی مختلف

 

کلمات کلیدی :